セルロイド工業発祥記念碑

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大正3年、この地に大規模なセルロイド工場が設立され、周辺地域はセルロイド工業の街として発達した。記念碑の建つ工場跡地は、現在ではテニスコートのあるバラの花の美しい公園となっている。

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「セルロイド工業発祥記念碑」の基本情報

名称

セルロイド工業発祥記念碑

カテゴリー

その他・その他

住所

東京都葛飾区東立石3-3-1渋江公園内

アクセス

(1)京成線立石駅から徒歩で8分

駐車場

電話番号

03-5654-8477

備考

創建年代 :昭和27(1952)年

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